内蒙古特种气体高纯度/高纯气体的定义

2020-12-23 10:45:33

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内蒙古特种气体厂家高纯度/高纯气体的定义

半导体材料集成电路芯片生产制造所必须的高纯气体关键分成两类：

1.一般汽体：也叫大宗商品汽体，关键有：H2、N2、O2、Ar、He等。

2.高纯气体：关键指各种各样夹杂用汽体、外延性用汽体、离子注入用汽体、离子注入用汽体等。

半导体设备用汽体依照应用时的危险因素归类：

1.可燃性、燃烧、易燃物品汽体：H2、CH4、H2S、NH3、SiH4、PH3、B2H6、SiH2CL3、CLF3、SiHCL3等

2.有害气体：AsH3、PH3、B2H6等

3.燃烧汽体：O2、N2O、F2、HF等

4.内蒙古特种气体价格室息气体：N2、He、CO2、Ar等

5.腐蚀汽体：HCL、PCL3、POCL3、HF、SiF4、CLF3等

针对高纯气体，纯净度、干湿度、洁净度等级是三项关键的平均误差。因为高纯汽体的应用地址、特性、工作状况（如溫度、工作压力等）也不完全一致，因此，如何确定高纯气体的“三度”（纯净度、干湿度、洁净度等级），都还没一个严苛而确立的定义。针对纯净度和干湿度的操纵，在我国CBJ73—84《洁净厂房设计规范》中强调，“高纯气体是指纯净度大于或等于99.9995%，水分含量低于5ppm汽体。”日本把微电子技术生产制造中所选用的汽体，按其不一样的品味，实际分成下述好多个不一样的级别：

1.超高纯气体汽体中残渣总成分操纵在1ppm下列，水分成分操纵在0.2~1ppm。

2.高纯气体汽体中残渣总成分操纵在5ppm下列，水分成分操纵在3ppm之内。

3.内蒙古特种气体清洁汽体汽体中残渣总成分操纵在10ppm下列,对水分成分未作严苛要求。

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